湿法化学刻蚀的机理主要包括三个阶段：反应物通过扩散到反应物表面，化学反应在表面上进行，然后通过扩散将反应生成物从表面移除。腐蚀液的搅拌和温度将会影响腐蚀速率，在集成电路工艺中，大多是湿法化学刻蚀是将硅片浸入化学溶剂或向硅片上喷洒刻蚀溶剂。
作者：X-MOL2017-12-04学化学的人，尤其是有机化学、高分子化学等领域的，除了每天和各种试剂、各种瓶瓶罐罐打交道，也免不了要画图。不管是平时准备报告PPT，还是发表文章时准备插图，能准确、简洁、美观地画出化合物的结构式是化学...
中国科学技术大学博士学位论文自下而上与自上而下法构筑纳米结构及其物性研究姓名：张淑东申请学位级别：博士专业：无机化学指导教师：谢毅20100401摘要摘要本论文旨在探索利用晶体结构来控制性的构建一些具有特殊尺寸、特殊形貌和图案的高度规则的无机多级微纳结构材料，结合...
等离子体刻蚀机理在等离子体刻蚀工艺中，首先是在把硅晶片上面涂抹一层由碳氢化合物构成的光敏物质，并在光敏物质上盖上具有一定图形规则的金属模板，然后进行紫外曝光，使部分晶片的表面裸露出来，接着再把这种待加工的硅晶片放置到具有化学活性的
看国外文献的方法总结（从PhD到现在工作半年，发了12篇paper，7篇firstauthor.）我现在每天还保持读至少2-3篇的文献的习惯.读文献有不同的读法.但最重要的自己总结概括这篇文献到底说了什么,否则就是白读,读的时候好像什么都明白,一合上就什么都不知道,这是读文献的大忌,既浪费时间,最重要的…
请允许我先喊一句口号，“仿生材料学万寿无疆”！特殊浸润性是现在老火的领域了，我的水平很低，修学分的时候认真读过一篇二十几页的综述，还有一篇十几页的嘛不太记得了，总之其实可次，就是瞎叨叨，有错误请专家不吝批评指正。问题是疏水表面是怎么制作的，主要在“怎么”上。
来源：内容来自微信公众号半导体行业观察（ID：icbank），作者「华创证券」，谢谢。半导体芯片生产主要分为IC设计、IC制造、IC封测三大环节。IC设计主要根据芯片的设计目的进行逻辑设计和规则制定，并根…
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我离诺贝尔奖最近的一刻是在斯德哥尔摩现场看我的博士导师在NobelLecture上展示我的研究工作(他因对分子机器的研究获得2016年诺贝尔化学奖，同年我在该领域获得博士学位毕业)youtube视频第58分40秒开始后面的大概9分钟都是我博士毕业论文的...
《剪纸中的阴刻和阳刻》.ppt,剪纸中的阴刻和阳刻义务教育教科书·美术四年级上册第20课新疆出土的北朝时期的剪纸——团花一、剪纸的起源早在西周时，人们在金箔、皮革、绢上雕镂、剔、刻、剪纹样，那时的剪纸艺术就萌芽了。根据考古其历史可追朔到公元六世纪南北朝时期，这是中国新疆...